D형 홀을 통제하는 방법

D형 홀을 통제하는 방법

윤곽공차만으로 통제하기

D형 홀을 통제하기 위해 아래 그림과 같이 윤곽공차를 사용할 수 있다.

 

이 경우에는 윤곽공차에 의한 공차영역의 위치는 데이텀에 대해 고정된다.

 

윤곽공차와 위치공차를 함께 사용하여 통제하기

D형 홀을 통제하는 다른 방법으로는 아래 그림과 같이 윤곽공차와 위치공차를 함께 사용할 수도 있다.

 

윤곽공차 1.0은 데이텀 피쳐를 참조하고 있지 않다. 따라서 트루 프로파일의 위치는 고정되지 않는다. 트루 프로파일을 기준으로 생성되는 공차영역의 위치도 고정되지 않는다.

윤곽공차에 의해 생성되는 공차영역

 

반면 위치공차 1.2는 MMC에서 정의되고 데이텀 피쳐 3개를 참조하고 있다. 따라서 위치공차에 의해 생성되는 VC경계는 DRF에 대해 회전과 병진이 구속된다. 윤곽공차에 의해 생성된 MMB와 위치공차의 공차값으로 위치공차 요구사항이 정해진다. 위치공차의 공차값은 항상 공차영역의 전체너비이다. 따라서 위치공차의 공차영역은 전체 너비가 1.2이다. 그래서 위치공차에 의해 생성되는 VC경계의 거리는 MMB에서 위치공차를 뺀 것과 같다. 위치공차의 공차영역에 트루포지션에 있을 때, 위치공차의 VC경계는 윤곽공차에 의해 생성된 MMB에서 안쪽으로 0.6만큼 옵셋되어 생성된다. 

위치공차에 의해 생성되는 VC 경계

 

피쳐의 서피스는 DRF에 대해 회전과 병진이 구속된 위치공차에 의해 정의된 VC 경계를 침범하지 않아야 한다. 윤곽공차의 공차영역은 구속되어 있지 않다. 피쳐는 허용할 수 있는 위치와 자세로 생산되어야 하고, 피쳐의 사이즈와 모양은 구속이 없는 윤곽공차의 요구사항을 만족해야 한다.